半導體工程-先進製程與模擬 (Silicon VLSI Technology: Fundamentals, Practice, and Modeling)

半導體工程-先進製程與模擬 (Silicon VLSI Technology: Fundamentals, Practice, and Modeling)

作者: James D. Plummer Michael Deal Peter D. Griffin 羅正忠 李嘉平 鄭湘原 譯
出版社: GL高立
出版在: 2002-08-31
ISBN-13: 9789868040977
ISBN-10: 9868040973
總頁數: 804 頁





內容描述


Character:

  本書不僅在矽晶片製作的相關實例上作描述,也在科學的基礎上作描寫。科學的定理將以許多事例的製程情況下來描述;在大部分的章節裡,模型已經在電腦的模擬程式下來討論,更使用大量的模擬例題來敘述科技運作與顯現不容易被看見的技術方法,發現這些工具的確是一個相當有力的技術軟體。
  
Content:

第一章 積體電路介紹與歷史展望

第二章 現代化的

      CMOS 技術

第三章 晶體成長、晶圓製造與矽晶圓的基本性質

第四章 半導體製造

      ─ 無塵室、晶圓清洗、吸附

第五章 微影

第六章 熱氧化與

      Si/SiO2 界面

第七章 摻質擴散

第八章 離子佈植

第九章 薄膜沉積

第十章 蝕刻

第十一章 後段技術

附錄

英中文索引

Content:




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